---厂家-人本合金-苏州---

本文采用分散直接插层法使聚--- (ppy)嵌入--- (v2 o5)凝胶层间。并通过x射线衍射 (xrd)、红外光谱 (fi ir)和多点氮气吸附法 (bet/n2 )等测试手段对其进行分析 ，证明了ppy确实进入了--- (v2 o5)干凝胶的层间 ，为不溶性导电高聚物的插层提供了一条新的途径。分别以金属mo粉为钼源、v2o5为钒源和以moo3为钼源、nh4vo3为钒源，通过低温水热法合成了不同形貌的钼掺杂v2o5纳米结构。用x-射线衍射（xrd）、扫描电子显微镜（sem）和能谱（eds）对产物进行表征。结果表明，反应产物均为正交v2o5纳米带，---催化剂，且纳米带的尺寸均匀，宽度100～400 nm，厚度10～40 nm，长度可达到几十微米。研究还发现它们的掺杂量是不同的，分别为3%和2.1%。

利用射频磁控溅射方法，选取溅射时间为15，25，30和45min，在蓝宝石衬底上沉积了v2o5薄膜。研究了其他实验参量不变，溅射时间不同对薄膜结构、薄膜厚度、表面形貌、电学及光学性能的影响。实验结果表明，制备出的薄膜为单一组分的v2o5薄膜，其在（001）面有明显的择优取向。随着溅身时间的增加，结晶性能逐渐变强，晶粒尺寸也逐渐变大，而表面粗糙度值会逐渐降低;在晶体结构完整的基础上，随着溅射时间的增加，苏州---，相变温度和经历的温度范围会逐渐增加，---厂家，电学突变性能会降低。测试了薄膜在中红外波段的高低温透过率，结果显示：当膜厚为350nm，波长为5μm时，薄膜的透过率从25℃时的81%变为300℃的7%，变化幅度可达74%;所有薄膜相变前后透过率的比值均为9~13，表现出了非常---的光学开关特性。